Doppelseitige Flachschleiflösung für hochentwickelte Keramikplatten

Maschinen-Modell:YHDM580B Hochpräziser Doppelscheibenschleifer;

Werkstücke:Aluminiumnitrid-Keramikplatte;

Erfordernis:Entfernungsmenge 0.17–0.21 mm, Ebenheit 0.02 mm, Rauheit Ra 0.6 um;

AlN-Keramikprodukte werden hauptsächlich in hochdichten Hybridschaltungen, Mikrowellenleistungsgeräten, Halbleiterleistungsgeräten, leistungselektronischen Geräten, optoelektronischen Komponenten, Halbleiterkühlung und anderen Produkten als Hochleistungssubstratmaterialien und Verpackungsmaterialien verwendet. - Kühlkörpersubstrat, LED-Gehäuse Substrat, Halbleitersubstrat, Dünnschicht-Schaltungssubstrat, Leistungswiderstandssubstrat – Optoelektronik – dielektrische Schichten in optischen Speichermedien – elektronische Substrate, Chipträger, bei denen eine hohe Wärmeleitfähigkeit unerlässlich ist; – militärische Anwendungen